AZO （Aluminum Znic Oxide Target）靶材：是鋁鋅氧化物靶材。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，終沉積在基片上。AZO是鋁摻雜的（ZnO）透明導電玻璃的簡稱。磁控濺射技術是20世紀70年始應用于實踐的，其制備薄膜的原理：在真空室充入壓強0.1-l0 Pa的惰性氣體(Ar)的同時，在陰極靶材下面放置了100～1000Gauss強力磁鐵。